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輝達（NVIDIA）宣布，台積電和新思科技（Synopsys）使用輝達的運算式微影平台投入生產，透過生成式人工智慧（AI）提升cuLitho平台價值，加速製造並突破先進半導體晶片物理極限，開發2奈米及更先進技術。
輝達去年推出cuLitho，台積電及新思科技已將cuLitho整合至軟體、製造流程和系統中，以加快晶片製造。輝達執行長黃仁勳說，運算式微影是晶片製造的基石，輝達與台積電和新思科技合作，將cuLitho應用於加速運算和生成式AI開拓半導體微縮的新領域。
台積電總裁魏哲家說，台積電與輝達合作，將繪圖處理器（GPU）加速運算整合到工作流程中，使得效能大幅躍升、顯著提高生產率、縮短週期時間以及降低功耗需求。台積電正在將輝達cuLitho投入生產，利用這一運算式微影技術驅動半導體微縮的關鍵組件。
新思科技表示，與台積電和輝達合作對於實現埃米等級的微縮至關重要；在cuLitho軟體庫上執行新思科技Proteus光學鄰近修正（OPC）軟體，可顯著加快運算工作負載。
新思科技指出，透過Proteus光罩合成產品，台積電等製造廠可以在鄰近校正、修正模型構建，以及分析已修正和未修正積體電路設計圖案的鄰近效應方面，實現良好的精度、效率和速度，改變晶片製造製程。
輝達並開發演算法，將生成式人工智慧應用於進一步提升cuLitho平台價值。全新的生成式AI工作流程有助於cuLitho的加速流程進一步加速2倍。
輝達表示，應用生成式AI可以考量光的繞射，創建近乎完美的反向式光罩或反向式解決方案，可將光學鄰近修正流程的速度加快2倍。
相較於去年cuLitho讓500個輝達H100系統可以做到相當於4萬個CPU系統的工作量，輝達指出，透過加速運算，現在350個H100系統就可以取代4萬個CPU系統，加快生產時間，同時降低成本、空間和功耗。
輝達表示，cuLitho提供的加速運算和生成式AI緩解了成本和瓶頸，使晶圓廠能夠分配可用的運算能力和工程承載量，以便在開發2奈米及更先進的新技術時設計出更新穎的解決方案。
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